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超純水的介紹及制作工藝

發(fā)布日期: 2022-08-09
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電子級水是指電子和半導體工藝過程中所用的超純水。超純水是一類純度高的。幾乎不含電解質(zhì)、氣體、有機物和難離解膠體物的水,其電阻率不低于10MΩ/cm含鹽量低于0.02mg/L。超純水是電子行業(yè)中常用的術語,其他行業(yè),諸如太陽能光伏,制藥,發(fā)電以及研究實驗室等也被使用到。雖然每個行業(yè)都使用所謂的“超純水”,但質(zhì)量標準各不相同。即使在電子行業(yè)中,不同應用諸如半導體、液晶面板及各種電子元器件對超純水的要求也各不相同。其中半導體中代表了“超純水”使用的最高等級。

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表一:《GB-T 11446-2003》電子水等級

水中雜質(zhì)可分為兩類:一是懸浮雜質(zhì),包含細菌、病毒、有機物、膠體等;二是溶解在水中的小分子和離子,包括溶解性氣體、鹽類及少量重金屬離子。

超純水制備通常由預處理、脫鹽、后處理三大部分組成。半導體行業(yè)所使用的超純水(電阻率≥18MΩ/cm)通常采用“預處理(機械過濾)+二級RO +EDI裝置+拋光混床(MMF+ACF+二級RO +EDI+SMB)”的工藝。

而EDI電去離子技術的應用對前端來水TOC及SiO2等有嚴苛的要求,TOC要求控制在0.5*10-6mg/L以下,SiO2控制在0.4*10-6mg/L以下,安力斯UV-TOC系列產(chǎn)品使用185nm和254nm雙波段紫外燈,低耗高效去除水中TOC、SiO2游離氯、鐵等微量污染物。

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圖一:二級RO+EDI超純水制備工藝

 

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